半导体、显像管、光学产品等制造业用纯水
半导体清洗超纯水设备水质标准：
半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
新半导体清洗超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）(*新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(*新工艺)

半导体清洗超纯水设备应用场合：
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
　 ☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
　 ☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
　 ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
　 ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
　 ☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片
　 ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
　 ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
　 ☆高品质显像管、萤光粉生产
　 ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
　 ☆超纯材料和超纯####、超纯化工材料
　 ☆实验室和中试车间
　 ☆汽车、家电表面抛光处理
　 ☆光电产品、其他高科技精微产品