化工及半导体制造业对水的净化要求极高，用于清洗集成电路用水或化工用水，一般要求电阻率达到18兆欧。特别制造的RO元件和高纯化级离子交换树脂或EDI装置，会同一些特殊的水处理方法，是 达到高品质化工及电子用水的重要途径。

本公司提供的HNR HINER膜元件，性能稳定，寿命长，脱盐率高和抗微生物的侵蚀，广泛地应用在电厂除盐水工艺中。

反渗透膜元件进行锅炉补给水的前处理，用来脱除硅溶解盐和所有的有机碳类物质，这样可以延长离子交换树脂及EDI装置寿命和减少再生次数，降低废水处理设备成本及其维护费用。