离子交换混床为深度脱盐设备，用于制造高纯水。产水电阻率为10-18MΩ/CM(25C),二氧化硅含量（SIO2）≤0.02mg/L, 混床分为单、双床、抛光床、出水电导率由高精度电阻率仪监控。
应用范围：
混床一般放置在电渗析器或反渗透装置之后（或直接应用于含盐量较低的水），对水进一步脱盐可制取较高纯水，广泛使用在电子、化工、医药、原子能、电力等行业。