EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。
EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。
在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在
水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以反渗透（RO）纯水作
为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm（25℃）。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，
但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。
产品名称：EDI膜块
产品规格：1-1000T/H
产品备注：EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。



EDI 系统概述

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子水质技术分为五个行业标准，分别为1MΩ.cm、5MΩ.cm、10MΩ.cm、16MΩ.cm、18MΩ.cm，以区分不同水质。
制备电子工业用超纯水的工艺流程
电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种：
1、采用离子交换树脂制备超纯水的其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→阳床→阴床（复床）→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→混床泵→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备，这是一种制取超纯水的*新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→精密过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→（EDI）泵→保安过滤器→紫外线→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点