电子、光学纯水、超纯水设备出水标准：

应用范围：


中国电子行业超纯水国家标准GB/T11446.1-1997
实验室用水国家标准GB6682-2008
美国半导体工业用纯水指标
美国试验级用水标准ASTM/NCCLS
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
超纯材料和超纯####
LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管
超纯材料和超纯####、光导纤维、光盘
实验室和中试车间
汽车、家电表面抛光处理
其他高科技精微产品

设备规格：


成套设备出水量：0.5T/H-120T/H

典型工艺流程：


二级反渗透(RO2)：

原水----预处理----一级反渗透----二级反渗透----纯水箱----0.22μm精密过滤器----纯化水

一级反渗透+混床树脂(RO+MB)：

原水----预处理----反渗透装置----混床树脂----精制混床树脂----后处理----超纯水

一级反渗透+EDI装置(RO+EDI)

原水----预处理----反渗透装置----EDI装置----后处理----超纯水

一级反渗透+EDI装置+混床树脂(RO+EDI+MB)

原水----预处理----反渗透装置----EDI装置----精制混床树脂----后处理----超纯水

地址：杭州市勾运路2号

全国免费电话：400-7110028
QQ：2249645390
网址：www.hzyjd.com