名清源科技（北京）有限公司

电子半导体工业EDI超纯水设备介绍
超纯水，既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm。超纯水*初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质。
名清源科技（北京）有限公司设计研发的电子半导体工业EDI超纯水设备，采用*先进的多级预处理+双级RO反渗透+EDI+混床抛光技术，根据不同用户的需要，定制设计不同产水水质要求和不同产水流量要求的超纯水设备，设备产水量0.2-10吨/小时，制备的超纯水完全符合中国国家实验室用水GB6682-2008标准，对于特定领域的特殊要求，可设计产水水质达到18.25MΩ的极限超纯水设备。